四氟化碳物理性質 :
熔點-183.6℃,
分子式是CF4,
沸點-128.1℃,
液體密度(-130℃)1.613g/cm3,
液體折光率(-173℃)1.515,
固體轉變點72.2K,
臨界溫度-45.67℃,
臨界壓力3.73MPa,
蒸氣壓(-150.7℃)13.33kPa
介電常數(25℃,0.5MPa)1.0006
臨界密度:7.1dm3/mol
標準摩爾自由能:-929.84 kJ/mol
標準摩爾生成自由能:-887.41 kJ/mol
危險性類別:第2.2類不燃氣體
四氟化碳在不同的大氣壓下呈現的狀態是不同的,就像氧氣在101kPa時會呈現出液態。四氟化碳是無色、無臭、不燃的可壓縮性氣體,發揮性較高.在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產生有毒氟化物。四氟化碳在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產生有毒氟化物。
儲存注意事項:儲存于陰涼、通風的不燃氣體庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與易(可)燃物、氧化劑分開存放,切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。四氟化碳作為制冷劑是一種無色不可燃氣體,能夠保障液體運輸的安全性。在臨床醫學中,四氟化碳還是一種高濃度的醉劑。由以上看出,四氟化碳的應用范圍廣泛,在下游電子產業等帶動下,行業快速發展。是微電子工業中用量大的等離子蝕刻氣體,高純氣高純氧的混合氣,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
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